Pat
J-GLOBAL ID：200903029929405637
メイクアップ化粧料
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
遠山 勉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993031642
Publication number (International publication number)：1994247829
Application date： Feb. 22, 1993
Publication date： Sep. 06, 1994
Summary：
【要約】【目的】 塗布部に滑らかな感触を付与する効果に優れ、かつ、皮膚への吸着性が高いメイクアップ化粧料を提供する。【構成】 化1で表されるスルホン酸変性シリコーンをメイクアップ化粧料に配合する。【化1】ただし、各R1は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは置換フェニル基を示し、R2は2〜11価の炭化水素残基を示し、その炭素-炭素一重結合は官能基の反応により生じる残基で中断されてもよく、また、Aはイソシアネート基と活性水素を持つ官能基との反応により生じる残基であり、R3はアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、Xは一価の金属、水素原子又は-H・X1(ここで、X1はアンモニア又はアミンを示す)を示し、また、mは50〜200の整数を示し、pは1〜10の整数を示す。
Claim (excerpt)：
化1で表されるスルホン酸変性シリコーンを含有するメイクアップ化粧料。【化1】ただし、各R1は独立に低級アルキル基又は非置換もしくは置換フェニル基を示し、R2は2〜11価の炭化水素残基を示し、その炭素-炭素一重結合は官能基の反応により生じる残基で中断されてもよく、また、Aはイソシアネート基と活性水素を持つ官能基との反応により生じる残基であり、R3はアリーレン基、直鎖又は分岐のアルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基を示し、Xは一価の金属、水素原子又は-H・X1(ここで、X1はアンモニア又はアミンを示す)を示し、また、mは50〜200の整数を示し、pは1〜10の整数を示す。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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