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J-GLOBAL ID：200903029930275399

欠陥形状検出方法及びその装置ならびにそれを用いた欠陥修正方法及びその装置

Inventor： 宍戸 弘明 ,  中田 俊彦 ,  嶋瀬 朗 ,  東 淳三
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998145413
Publication number (International publication number)：1999338124
Application date： May. 27, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】位相シフトレチクル上に発生した不定形状の欠陥を高精度に修正し、高品質な位相シフトレチクルを提供する。【解決手段】光学的に透明な基板上の光学的に透明な欠陥の形状を測定する方法およびその装置において、基板に異なる波長を有する照明光を照射し、基板と照射する照明光とを相対的に移動させながら基板で反射した照明光の反射光または基板を透過した透過光を検出し、この検出した反射光または透過光のヘテロダイン干渉干渉に基づいて基板上の光学的に透明な欠陥の形状を測定するようにした。また、光学的に透明な基板上の光学的に透明な欠陥を第1の解像度で検出し、この検出した基板上の欠陥の形状を第1の解像度より高い第2の解像度で測定し、この第2の解像度で測定した基板上の欠陥の位置と形状の情報に基づいて欠陥を修正することを特徴とする欠陥修正方法およびその装置とした。

Claim (excerpt)：

光学的に透明な基板上の光学的に透明な欠陥の形状を測定する方法であって、前記基板に異なる波長を有する照明光を照射し、前記基板と前記照射する照明光とを相対的に移動させながら前記基板で反射した前記照明光の反射光または前記基板を透過した透過光を検出し、該検出した反射光または透過光のヘテロダイン干渉干渉に基づいて前記基板上の光学的に透明な欠陥の形状を測定することを特徴とする欠陥形状検出方法。

IPC (5)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/24 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (8)：

G03F 1/08 S ,  G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 T ,  G01B 11/24 D ,  G01B 11/30 H ,  G01N 21/88 D ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J