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J-GLOBAL ID：200903029939239336

金属含有多孔体及びその製造方法

Inventor： 小林 悟 ,  北川 浩 ,  二夕村 森 ,  菊川 伸行 ,  濱田 研介
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002118404
Publication number (International publication number)：2003313021
Application date： Apr. 19, 2002
Publication date： Nov. 06, 2003
Summary：

【要約】【課題】 高品質な金属含有多孔体の製造方法を提供する。【解決手段】 キトサンの金属錯体を製造する工程と、該キトサン金属錯体を炭化する工程と、該炭化工程で得られた炭化物を表面活性化する工程からなることを特徴とする金属含有多孔体の製造方法。

Claim (excerpt)：

キトサンの金属錯体を炭化し、表面活性化してなる金属含有多孔体。

IPC (5)：

C01B 31/10 ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/30 ,  B01J 37/00 ,  C04B 38/00 304

FI (5)：

C01B 31/10 ,  B01J 20/20 D ,  B01J 20/30 ,  B01J 37/00 A ,  C04B 38/00 304 Z

F-Term (22)：

4G019GA04 ,  4G066AA04B ,  4G066AB24A ,  4G066FA05 ,  4G066FA18 ,  4G066FA22 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BA29C ,  4G069BC66B ,  4G069BC68B ,  4G069DA05 ,  4G069FA01 ,  4G069FA08 ,  4G069FB34 ,  4G069FC02 ,  4G146AA06 ,  4G146BA34 ,  4G146BC03 ,  4G146BD01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 電気二重層コンデンサー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-147980   Applicant：古河機械金属株式会社
• 金属分散炭素材料組成物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-021155   Applicant：株式会社関西新技術研究所
• 無機イオン交換体-親水性高分子活性炭複合体およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-052588   Applicant：レンゴー株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• キトサンからの活性炭の製造