Pat

J-GLOBAL ID：200903029944780142

リン酸イオン含有水の処理装置

Inventor： 藤本 恵一 ,  森泉 雅貴
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998345699
Publication number (International publication number)：2000167560
Application date： Dec. 04, 1998
Publication date： Jun. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】 不動態膜の発生を抑制し、リン酸除去性能を維持することができるリン酸イオン含有水の処理装置を提供する。【解決手段】 電解処理槽4内のリン酸イオンを含む被処理水中に少なくとも一部が浸漬するように対向して配置され、少なくとも一方が鉄および/またはアルミニウムを含む少なくとも一対の溶解性電極と、該電極に通電するための電源8と、前記処理槽4内を曝気する曝気手段9とからなる処理装置であって、前記処理槽4に流入する被処理水の上流部位および/または前記処理槽4内に少なくとも一対の不溶性電極13が浸漬されてなる。

Claim (excerpt)：

電解処理槽内のリン酸イオンを含む被処理水中に少なくとも一部が浸漬するように対向して配置され、少なくとも一方が鉄および/またはアルミニウムを含む少なくとも一対の溶解性電極と、該電極に通電するための電源と、前記処理槽内を曝気する曝気手段とを備えてなる処理装置であって、前記電解処理槽に流入する被処理水の上流部位および/または前記電解処理槽内に少なくとも一対の不溶性電極が浸漬されてなるリン酸イオン含有水の処理装置。

IPC (5)：

C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/58 ,  C02F 3/30

FI (4)：

C02F 1/46 102 ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/58 R ,  C02F 3/30 C

F-Term (40)：

4D038AA05 ,  4D038AA08 ,  4D038AB46 ,  4D038AB47 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BB10 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D038BB19 ,  4D040BB32 ,  4D040BB72 ,  4D061DA06 ,  4D061DA08 ,  4D061DB18 ,  4D061DB19 ,  4D061DC13 ,  4D061EA03 ,  4D061EA06 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061FA13 ,  4D061FA14 ,  4D061FA15 ,  4D062BA04 ,  4D062BA17 ,  4D062BA23 ,  4D062CA03 ,  4D062CA04 ,  4D062CA18 ,  4D062DA07 ,  4D062EA36 ,  4D062FA01 ,  4D062FA16 ,  4D062FA26