Pat
J-GLOBAL ID:200903029949815750
3次元形状計測方法および装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
平田 忠雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000094199
Publication number (International publication number):2001280927
Application date: Mar. 30, 2000
Publication date: Oct. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 広い測定レンジで精度良く測定を行うことが可能な3次元形状計測方法および装置を提供する。【解決手段】 半導体レーザ3は、変調信号発生器2からの所定の周波数の直線からなる変調信号2aによって強度変調された光を対象物体6に照射する。イメージインテンシファイア9は、対象物体6で反射した光を受光して光量信号に光電変換し、ゲート動作タイミング信号発生器12からのタイミング信号に基づいて光量信号を変調信号2aとほぼ等しい周波数で増幅動作を行って検出信号を出力する。距離演算部11は、イメージインテンシファイア9からの検出信号に基づいて変調信号2aと光量信号との位相差を求め、この位相差に基づいて対象物体6までの距離を演算する。
Claim (excerpt):
所定の周波数の直線からなる変調信号によって強度変調された光を対象物体に照射し、前記対象物体で反射した光を受光して光量信号に光電変換し、前記光量信号を前記所定の周波数とほぼ等しい周波数でサンプリングを行い、前記サンプリングの結果に基づいて前記変調信号と前記光量信号との位相差を求め、前記位相差に基づいて前記対象物体までの距離を演算することを特徴とする3次元形状計測方法。
IPC (4):
G01B 11/24
, G01B 11/00
, G01C 3/06
, G01S 17/36
FI (5):
G01B 11/00 B
, G01C 3/06 Z
, G01S 17/36
, G01B 11/24 A
, G01B 11/24 K
F-Term (36):
2F065AA06
, 2F065AA53
, 2F065DD00
, 2F065FF13
, 2F065FF42
, 2F065GG06
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL21
, 2F065LL22
, 2F065NN02
, 2F065NN08
, 2F065QQ01
, 2F065QQ23
, 2F065QQ42
, 2F065QQ47
, 2F065SS01
, 2F065SS13
, 2F112AD03
, 2F112BA03
, 2F112BA06
, 2F112CA08
, 2F112CA12
, 2F112DA19
, 2F112DA25
, 2F112EA03
, 2F112FA03
, 2F112FA21
, 5J084AA05
, 5J084AD02
, 5J084BA04
, 5J084BA34
, 5J084BB02
, 5J084BB20
, 5J084EA04
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