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J-GLOBAL ID：200903029952566834

露光装置及びデバイス製造方法

Inventor： 小林 直行 ,  谷元 昭一 ,  水野 恭志 ,  白石 健一 ,  中野 勝志 ,  大和 壮一
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004151714
Publication number (International publication number)：2005277363
Application date： May. 21, 2004
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：

【課題】 投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、基板を露光する露光装置であって、投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えている。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影し、前記基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系の像面付近に配置された部品上に残留した液体を除去する液体除去機構を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (1)：

H01L21/027

FI (2)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 503G

F-Term (8)：

5F046AA18 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046DA07 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 国際公開第99/49504号パンフレット
  

Cited by examiner (3)

• 液浸式投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-296518   Applicant：キヤノン株式会社
• 投影光学系検査装置及び同装置を備えた投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-083724   Applicant：株式会社ニコン
• 液浸型露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121757   Applicant：株式会社ニコン