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J-GLOBAL ID：200903029959157859

浸漬フォトリソグラフィシステム及びマイクロチャネルノズルを使用する方法

Inventor： ハーマン フォーゲル ,  クラウス シーモン ,  アントニウス テオドルス アンナ マリア デルクセン
Applicant, Patent owner： エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ
Agent (4)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004181684
Publication number (International publication number)：2005012228
Application date： Jun. 18, 2004
Publication date： Jan. 13, 2005
Summary：

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、液体の速度プロフィルを均一にし、光ひずみを防止することである。【解決手段】電磁放射で基板101を露光する露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系100を有しており、投影光学系100と基板101との間に液体流107を提供する液体供給システムが設けられており、基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズル416が設けられている。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、 電磁放射で基板を露光する露光システムが設けられており、該露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系を有しており、 投影光学系と基板との間に液体流を提供する液体供給システムが設けられており、 基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズルが設けられていることを特徴とする、液体浸漬フォトリソグラフィシステム。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

F-Term (4)：

5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046DA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 液浸型露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121757   Applicant：株式会社ニコン

Cited by examiner (1)

• 液浸型露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121757   Applicant：株式会社ニコン