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J-GLOBAL ID：200903029971913570
重ね合わせ測定方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
宮越 典明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996043586
Publication number (International publication number)：1997237749
Application date： Feb. 29, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：
【要約】【課題】 半導体集積回路製造時におけるレジストパタ-ンの下地パタ-ンに対する重ね合わせ誤差を測定する方法において、下地パタ-ンの形成プロセスの要因により該下地パタ-ンが非対称形状となった場合においても、計測誤差が小さく、正確な重ね合わせ測定を行うことができる方法を提供すること。【解決手段】 光学画像から画像信号Y(I)を取り出し、これを下地パタ-ン検出波形Ya(I)とレジストパタ-ン検出波形Yr(I)とに分離する。次に、このYa(I)のみの画像信号を距離(S)移動して合成した下地パタ-ン合成波形の画像信号Y’a(I)から相関演算の手法により下地のパタ-ン中心Caを特定し、一方、レジストパタ-ン検出波形Yr(I)よりアルゴリズムを用いてレジストパタ-ン中心Crを求める。上記CaとCrより下地パタ-ン2に対するレジストパタ-ン1の重ね合わせ誤差は「Cr-Ca」で表わすことができる。
Claim (excerpt)：
半導体集積回路製造におけるリソグラフィ-プロセスにより形成されたフォトレジストパタ-ンの下地パタ-ンに対する重ね合わせ誤差を測定する重ね合わせ測定法において、レジストパタ-ン,下地パタ-ンの画像情報を得るための照明系及び光学系と、画像情報からレジストパタ-ン,下地パタ-ン各々の位置を算出するための情報処理部を備える重ね合わせ測定装置を用い、パタ-ンの画像信号から相関関数を算出し、この相関演算結果よりパタ-ン中心を特定することにより、レジストパタ-ンと下地パタ-ンとの間の重ね合わせ誤差を測定することを特徴とする重ね合わせ測定方法。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 525 W
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 X
