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J-GLOBAL ID：200903029977504817

薄膜形成用デバイス、薄膜デバイス及びその製造方法

Inventor： 民谷 栄一 ,  富名腰 敬 ,  村橋 瑞穂 ,  高村 禪
Applicant, Patent owner： 民谷 栄一
Agent (2)： 木森 有平 ,  浅野 典子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004061274
Publication number (International publication number)：2005245331
Application date： Mar. 04, 2004
Publication date： Sep. 15, 2005
Summary：

【課題】 人為的な操作等によって薄膜の安定性が左右されることがない、全く新しい原理に基づく薄膜形成用デバイス、薄膜デバイス及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板に形成された微小孔を覆って薄膜を形成する。このとき、溶媒による微小孔の閉孔現象を利用して薄膜を形成する。すなわち、微小孔が形成された基板上に薄膜形成材料を溶媒に溶解した溶液を供給し、溶媒の膨潤により微小孔が閉孔した状態で膜形成を行い、その後、溶媒の蒸発により微小孔を開孔させ、形成された薄膜を引き伸ばす。薄膜は、例えば脂質膜である。基板は、例えばポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂である。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

微小孔を有し溶媒により膨潤する基板を備え、前記膨潤による前記微小孔の閉孔により、当該微小孔を覆うように薄膜が形成されることを特徴とする薄膜形成用デバイス。

IPC (1)：

C12M1/00

FI (1)：

C12M1/00 Z

F-Term (1)：

4B029AA27

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 化学とマイクロシステム研究会講演要旨集, 2002, Vol.5th, p.73
• 電気化学会大会講演要旨集, 2002, Vol.69th, p.271
• 表面技術, 2003, Vol.54, No.6, p.395-401
• 化学とマイクロ・ナノシステム研究会講演要旨集, 20020806, Vol.6th, p.68、7p04
• 電気化学会大会講演要旨集, 2003, Vol.70th, p.416、2R02