Pat
J-GLOBAL ID:200903029992946192
シームレスカプセル製造装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
筒井 大和
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992308461
Publication number (International publication number):1994154587
Application date: Nov. 18, 1992
Publication date: Jun. 03, 1994
Summary:
【要約】【目的】 小型の加振装置で均一かつ微小な粒径のシームレスカプセルの製造を可能にする。【構成】 多重ノズル7から硬化用液10の中に多層液流を噴出させてジェット液流7aを形成し、このジェット液流7aを振動で分断して多層液滴を形成し、前記多層液滴を硬化用液10と接触させてシームレスカプセルSCを製造する装置である。前記多重ノズル7にカプセル形成用の液流を供給する管路6,9の一部を可撓性材料で形成し、その可撓性部分6hを加振装置25で振動させて多層液滴を生成する。
Claim (excerpt):
多重ノズルからカプセル形成用の液流を硬化用液内に噴出させてジェット液流を形成させ、このジェット液流を振動によって分断して多層液滴を形成し、前記液滴を硬化用液と接触させてシームレスカプセルを製造する装置であって、前記多重ノズルに前記カプセル形成用の液流を供給する管路の少なくとも一部を可撓性の材料で形成し、その可撓性部分に振動を与えるよう構成したことを特徴とするシームレスカプセル製造装置。
Patent cited by the Patent:
Return to Previous Page