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J-GLOBAL ID：200903029995605957

透明導電膜の製造方法及び透明導電膜

Inventor： 阿出川 豊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998194567
Publication number (International publication number)：1999242916
Application date： Jul. 09, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】 従来の蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法によった場合よりも安価な塗布法で低抵抗で膜強度が十分な透明導電膜を繰り返し塗布することなく製造できる方法を提供する。【解決手段】 透明支持体上に成膜された金属酸化物系の透明導電膜の製造方法において、次の2つの工程を含むことを特徴とする透明導電膜の製造方法。(a)透明支持体の一方の面に、金属酸化物系の透明導電性微粒子をバインダー及び溶剤もしくは水に分散させたものを塗布し、200°C以下で乾燥する工程(b)乾燥皮膜に紫外光線ないし赤外線の波長領域の電磁波を照射する工程

Claim (excerpt)：

透明支持体上に成膜された金属酸化物系の透明導電膜の製造方法において、次の2つの工程を含むことを特徴とする透明導電膜の製造方法。(a)透明支持体上に、金属酸化物系の透明導電性微粒子をバインダーを用いて溶剤もしくは水に分散させたものを塗布し、200°C以下で乾燥する工程(b)乾燥被膜に紫外光線ないしは赤外光線の波長領域の電磁波を照射する工程

IPC (4)：

H01B 13/00 503 ,  B29D 9/00 ,  B32B 9/00 ,  H01B 5/14

FI (4)：

H01B 13/00 503 B ,  B29D 9/00 ,  B32B 9/00 A ,  H01B 5/14 A