Pat
J-GLOBAL ID:200903030024649158
改良型フォトレジスト組成物
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
合田 潔 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993266844
Publication number (International publication number):1994266112
Application date: Oct. 26, 1993
Publication date: Sep. 22, 1994
Summary:
【要約】【目的】 本発明の目的は、化学的に増感されたフォトレジスト組成物を改良することにある。【構成】 本発明のフォトレジスト組成物は、(i)感光性酸発生体と、(ii)重合体であって、(ア)ヒドロキシスチレンと、(イ)アクリレート、メタクリレート、またはアクリレートとメタクリレートの混合物との反応生成物を含む上記重合体とを含む。【効果】 本発明によれば、熱安定性が改良され、空気中の汚染物質の影響を受けにくいフォトレジスト組成物が得られる。
Claim (excerpt):
感光性酸発生体と、重合体であって、ヒドロキシスチレンと、アクリレート、メタクリレート、またはアクリレートとメタクリレートの混合物とを含む上記重合体とを含む感光性レジスト組成物。
IPC (3):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
特開平2-096757
-
特開昭60-205444
-
特開昭60-260947
-
特開平3-206458
-
特開昭59-045439
Show all
Return to Previous Page