Pat
J-GLOBAL ID:200903030036969018

テフロンの微細加工方法及び加工装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995146127
Publication number (International publication number):1996336894
Application date: Jun. 13, 1995
Publication date: Dec. 24, 1996
Summary:
【要約】【目的】 アスペクト比が高くかつ大面積の加工が容易なテフロンの微細加工技術を提供する。【構成】 放射光をテフロン表面に照射してテフロンを加工するテフロンの加工方法であって、テフロン表面を有する加工対象物を準備する工程と、マスク面に放射光を実質的に透過させる領域と、実質的に透過させない領域が画定されたマスクを準備する工程と、加工対象物の少なくともテフロン表面を加熱する工程と、少なくとも波長160nmの紫外線を含む放射光を、マスクを介して加工対象物の表面に照射する工程とを含む。
Claim (excerpt):
放射光をテフロン表面に照射してテフロンを加工するテフロンの加工方法であって、テフロン表面を有する加工対象物を準備する工程と、マスク面に前記放射光を実質的に透過させる領域と、実質的に透過させない領域が画定されたマスクを準備する工程と、前記加工対象物の少なくとも前記テフロン表面を加熱する工程と、少なくとも波長160nmの紫外線を含む放射光を、前記マスクを介して前記加工対象物の表面に照射する工程とを含むテフロンの加工方法。
IPC (4):
B29C 59/16 ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 304 ,  C08L 27/12 LGB
FI (4):
B29C 59/16 ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 304 ,  C08L 27/12 LGB
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page