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J-GLOBAL ID：200903030046890444

貴金属めっきの製造方法

Inventor： 重盛 正樹 ,  中山 鶴雄
Applicant, Patent owner： ぺんてる株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993124914
Publication number (International publication number)：1994316773
Application date： Apr. 28, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】耐食性、光沢性(外観)に優れ、均一な貴金属めっき層を安定に形成することができる貴金属めっきの製造方法を提供すること。【構成】基材上に、ニッケル-リン合金めっきを施す工程と、その上層部に光沢ニッケルめっきを施す工程と、その上層部に貴金属めっきを施す工程と、その上層部にクロメート皮膜を形成する工程とよりなる貴金属めっきの製造方法。【効果】基材上に、ニッケル-リン合金めっき層を設けることにより、基材との電位差を緩和し、基材の腐食を防止する。また最表面層にクロメート皮膜を設けることにより貴金属めっき層のピンホールを埋め、光沢ニッケルめっき層の腐食を防止する。これら2つの作用により高耐食性であり、レベリング作用の高い光沢ニッケルめっきを使用することにより光沢性に優れた貴金属めっきが得られるものである。

Claim (excerpt)：

基材上に、ニッケル-リン合金めっきを施す工程と、その上層部に光沢ニッケルめっきを施す工程と、その上層部に貴金属めっきを施す工程と、その上層部にクロメート皮膜を形成する工程とよりなる貴金属めっきの製造方法。

IPC (4)：

C23C 28/00 ,  C23C 18/52 ,  C25D 5/14 ,  C25D 11/38 307