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J-GLOBAL ID：200903030092955526

マーキング装置

Inventor：
葛 城 誠 一

About 葛 城 誠 一


Applicant, Patent owner：
芝浦メカトロニクス株式会社

About 芝浦メカトロニクス株式会社


Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999257905
Publication number (International publication number)：2001079674
Application date： Sep. 10, 1999
Publication date： Mar. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 被対象物上でのマーキングを十分な品質で行うことができるとともに、二箇所以上のマーキング位置に異なった文字を同時にマーキングするといった多様なマーキング要求に柔軟に対応することができるマーキング装置を提供する。【解決手段】 マーキング装置は、定常出力のレーザ光20を出射するレーザ発振器1と、レーザ光20の光路を開閉する光路開閉機構3と、光路開閉機構3を通過したレーザ光20を走査して被対象物21上のマーキング位置21aにレーザ光を照射するスキャナ光学系7とを有している。レーザ光20は全反射ミラー2を介して光路開閉機構3に入射され、また光路開閉機構3を通過したレーザ光20は伝送光学系6を介してスキャナ光学系7に入射される。光路開閉機構3は、レーザ光の偏向角を制御する光偏向器4と、レーザ光を通過させるための開口5aを有するアパーチャ5とを有し、光偏向器4によってレーザ光の偏向角を制御することによりアパーチャ5の開口5aからのレーザ光の出射/非出射を切り替えることができる。
Claim (excerpt)：
被対象物上に文字や図形等のマーキングを行うマーキング装置において、定常出力のレーザ光を出射するレーザ発振器と、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光の光路を開閉する光路開閉機構と、前記光路開閉機構を通過したレーザ光を走査してマーキング位置にレーザ光を照射するスキャナ光学系とを備えたことを特徴とするマーキング装置。
IPC (3)：
B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  G02B 26/10
FI (4)：
B23K 26/00 B ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/06 J ,  G02B 26/10 Z
F-Term (9)：
2H045AB13 ,  2H045BA15 ,  2H045CB42 ,  2H045DA31 ,  4E068AB00 ,  4E068CD03 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10 ,  4E068CE03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 特開平4-258396
  • マルチヘッドレーザ彫刻機
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-228531   Applicant：カールバーゼルレーザーテクニークゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 特開昭62-192288

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