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J-GLOBAL ID：200903030106102440

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002279190
Publication number (International publication number)：2004117677
Application date： Sep. 25, 2002
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：

【課題】現像欠陥の発生を著しく低減し、優れた矩形のプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)側鎖に脂環式炭化水素を有する特定の部分構造を有する繰り返し単位又は主鎖に脂環式炭化水素を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)長鎖アルキル基を有する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(pI)〜一般式(pVI)で示される脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位及び下記一般式(II)で示される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)下記一般式(1)〜(4)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F7/039 ,  C08F20/18 ,  C08F32/08 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (5)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/18 ,  C08F32/08 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

F-Term (27)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA04P ,  4J100BA15P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100CA04 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38