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J-GLOBAL ID：200903030109939678

磁性研磨流体

Inventor： レビン,ルドミラ
Applicant, Patent owner： エム・ピィ・エム・リミテッド
Agent (1)： 深見 久郎 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000616301
Publication number (International publication number)：2002544318
Application date： May. 07, 2000
Publication date： Dec. 24, 2002
Summary：

【要約】セラミックおよびガラスの基板を研磨するのに適した種々の大きさのコロイドおよび/または非コロイド磁性粒子ならびにコロイドサイズの研磨粒子を含む磁性研磨流体(MPF)組成物が記載される。これらの組成物は通常、非常に基本的なpHを有する水溶性の組成物である。コロイドおよび/または非コロイドの磁性粒子を含有する金属基板研磨用の磁性研磨流体組成物もまた記載される。これら後者の組成物は、酸化剤と、通常、研磨処理において補助するための酸化防止剤とを含有する。MPFは通常コロイド研磨粒子を含む。金属研磨用のMPF組成物は通常、高酸性の水溶性の組成物である。種々のMPF組成物を調製するための方法が記載される。

Claim (excerpt)：

磁性研磨流体組成物であって、 コロイドおよび非コロイド磁性粒子を含み、前記非コロイド磁性粒子は、約0.15μmから約3.0μmの平均粒度範囲を有し、前記コロイド磁性粒子は、約0.01μmから約0.15μmの平均粒度範囲を有し、前記組成物はさらに コロイドサイズの研磨粒子を含み、前記研磨粒子は、約0.01μmから約0.1μmの平均粒度範囲を有し、前記組成物はさらに 前記コロイドサイズ粒子を安定させるための少なくとも1つの安定剤と、 粘性を調節するための添加剤と、 キャリア流体とを含む、組成物。

IPC (2)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (3)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 E ,  C09K 3/14 550 Z