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J-GLOBAL ID：200903030129492378

プラズマエッチング方法およびプラズマエッチング装置

Inventor： 辰巳 哲也
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995008935
Publication number (International publication number)：1996203868
Application date： Jan. 24, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 エッチングガスの消費量を削減し、被エッチング層のパターンの制御性やエッチング選択比に優れたプラズマエッチング方法およびプラズマエッチング装置を提供する。【構成】 排気経路8中のエッチング排気ガスを、フィードバック経路15a、15bを経由してエッチングガス導入経路4にフィードバックする。一方のフィードバック経路15aには、反応生成物除去手段14を設ける。【効果】 有効に使用されず廃棄されていたエッチング排気ガスが有効利用されるとともに、被エッチング基板上への堆積物の量を他のエッチングパラメータとは独立して制御可能となる。

Claim (excerpt)：

エッチング排気ガスの少なくとも一部を、エッチングガス導入経路へフィードバックしつつ、被エッチング層をパターニングすることを特徴とする、プラズマエッチング方法。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• ガス回収循環装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-356146   Applicant：株式会社新潟鉄工所
• 特開平4-061332
  

Cited by examiner (2)

• ガス回収循環装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-356146   Applicant：株式会社新潟鉄工所
• 特開平4-061332