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J-GLOBAL ID：200903030139121220

位相制御膜構造体

Inventor： 河野 芳弘 ,  山内 孝夫 ,  笠原 隆 ,  佐野 吉昭
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 篠原 泰司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993074463
Publication number (International publication number)：1994289438
Application date： Mar. 31, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 膜を透過する光線の分光位相差と、分光透過率,及び分光反射率とを制御して、その振幅変調と位相変調とを可能にした位相制御膜構造体を提供すること。【構成】 少なくとも2層づつの光吸収膜,及び透明膜を有し、且つ光吸収物質として、少なくとも1種類の金属を含んで位相制御膜12を構成すると共に、位相制御膜12の部分を透過した光線の分光位相Aと、位相制御膜12の部分以外の接合剤13の部分を透過した光線の分光位相Bとの差を、位相制御膜12の光学性能,及び接合剤13の屈折率によって制御させ、当該分光位相差を略可視域の全範囲に亘って約90度程度にする。

Claim (excerpt)：

光の透過率,反射率,及び位相を夫々に制御する位相制御膜構造体であって、少なくとも2層宛の光吸収膜,及び透明膜を有し、且つ光吸収物質として、少なくとも1種類の金属を含んで位相制御膜を構成すると共に、前記位相制御膜部分を透過した光線の分光位相と、位相制御膜部分以外の接合剤部分を透過した光線の分光位相との差を、当該位相制御膜の光学性能,及び接合剤の屈折率によって制御させ、当該分光位相差を略可視域の全範囲に亘って約90度程度にすることを特徴とする位相制御膜構造体。

IPC (3)：

G02F 1/21 ,  G02B 21/14 ,  G02B 26/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-275918
  
• 多層膜位相差顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-161747   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 特公昭25-003822
  
• 特公昭25-000488