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J-GLOBAL ID：200903030155802008

基板乾燥装置および基板洗浄乾燥装置

Inventor： 中林 亮 ,  天野 智
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 中村 純之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998265891
Publication number (International publication number)：2000097564
Application date： Sep. 21, 1998
Publication date： Apr. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】排気能力を増大することなく、基板乾燥時に発生するミストの基板への再付着を抑制し、ミストに起因する不良の発生を防止し、かつ、基板の大型化に対応でき、できるだけ小型化可能な基板乾燥装置または基板洗浄乾燥装置を提供する。【解決手段】乾燥する基板1を載置支持する基板支持台2と、基板支持台2を回転させる回転機構3と、基板支持台2の周囲を覆う側壁4bと装置外壁4aからなる容器4とを具備し、基板支持台2の基板支持面の水平延長面に開口する複数個の排気口6cを側壁4bに設けた。

Claim (excerpt)：

乾燥する基板を載置支持する基板支持台と、前記基板支持台を回転させる回転機構と、前記基板支持台の周囲を覆う容器と、前記基板支持台の基板支持面のほぼ水平延長面に開口する排気口とを有することを特徴とする基板乾燥装置。

IPC (5)：

F26B 11/08 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (5)：

F26B 11/08 ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 L

F-Term (19)：

3B201AA03 ,  3B201AB02 ,  3B201AB34 ,  3B201BB33 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB12 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD11 ,  3L113AA03 ,  3L113AB02 ,  3L113AB08 ,  3L113AB09 ,  3L113AC01 ,  3L113AC47 ,  3L113AC67 ,  3L113AC83 ,  3L113BA34