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J-GLOBAL ID：200903030169029115

処理装置

Inventor： 藤本 昭浩 ,  竹熊 貴志
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992073173
Publication number (International publication number)：1993234874
Application date： Feb. 25, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 装置内の排気を良好に行って、ミスト状になった処理液の被処理体の表裏面への飛来を防止する。【構成】 ウエハWを水平に保持して回転するスピンチャック21のウエハ保持部の下方を内カップ29にて包囲し、これらスピンチャック21と内カップ29の外方を外カップ30にて囲繞する。外カップ30の底部に起立された仕切部材34によって区画される内外二重の環状流路の内側環状流路15に排気口32を開口する。内カップ29の上部外周から垂下される外周部29dにて環状流路を外側環状流路36と中間環状流路37とに区画すると共に、この外側環状流路36と中間環状流路37の流路面積S1 ,S2 を相等しく設定する。

Claim (excerpt)：

被処理体を保持して回転する回転保持手段と、この回転保持手段を囲繞する外カップと、上記回転保持手段の被処理体保持部の下方を包囲すべく上記外カップの底部から起立する内カップと、上記外カップの底部に起立された仕切部材によって区画される内外二重の環状流路の内側環状流路に開口する排気口とを具備し、上記内カップの上部外周から垂下される外周部にて上記環状流路を外側及び中間環状流路に区画すると共に、この外側環状流路と中間環状流路の流路面積を相等しく設定したことを特徴とする処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-247264
  
• 特開昭63-153822
  
• 特開昭63-077569