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J-GLOBAL ID：200903030187209740
パターン検出方法とその装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992185234
Publication number (International publication number)：1994027034
Application date： Jul. 13, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 パターンの形状とその大きさが大きく異なる場合でも、それらパターン各々を検出感度や検出速度を可変にして、確実に検出すること。【構成】 基板1上のパターン種別に応じ、その基板1を斜上方より照明系A,Bより直線偏光照明する場合は、その直線偏光照明光の偏光方向と直交方向の偏光成分の光学画像は上方より検出系Gで検出される一方、その基板1を他の斜上方より照明系C,Dより直線偏光照明する場合は、その直線偏光照明光の偏光方向と直交方向の偏光成分の光学画像が上方より他の検出系Hで検出されるようにしたものである。
Claim (excerpt)：
基板の種別に応じ該基板上に形成されているパターンを検出するパターン検出方法であって、基板上の被検出パターン領域を、斜上方より第1の直線偏光光を以て照明した状態では、該第1の直線偏光光の偏光方向と同一の方向の偏光成分が遮光され、且つ該直線偏光照明光の偏光方向と直交する方向の偏光成分の光学画像は基板上方より光学倍率可変として光電検出される一方、基板上の被検出パターン領域を、上記斜上方とは異なる斜上方より第2の直線偏光光を以て照明した状態では、該第2の直線偏光光の偏光方向と同一の方向の偏光成分が遮光され、且つ該直線偏光照明光の偏光方向と直交する方向の偏光成分の光学画像は基板上方より光学倍率可変として光電検出されるようにしたパターン検出方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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