Pat

J-GLOBAL ID：200903030202755145

露光装置

Inventor： 松本 文直
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 友松 英爾 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994225567
Publication number (International publication number)：1996062734
Application date： Aug. 26, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：

【要約】【目的】 フィルム基板上での微細なパターン形成及び、精密な位置合わせが可能となる露光装置の提供。【構成】 柔軟性を有するプラスチックフィルム基板上に形成した感光性樹脂層を露光してパターンを形成する露光装置において、露光時における前記フィルム基板の吸着力を制御できる試料台を有することを特徴とする露光装置。

Claim (excerpt)：

柔軟性を有するプラスチックフィルム基板上に形成した感光性樹脂層を露光してパターンを形成する露光装置において、露光時における前記フィルム基板の吸着力を制御できる試料台を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-115475   Applicant：株式会社アドテックエンジニアリング, キャノン・コンポーネンツ株式会社
• 特開平3-282472
  
• 特開昭61-105841