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J-GLOBAL ID：200903030209976104
既設構造物直下の地盤改良工法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 朔生 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992215783
Publication number (International publication number)：1994041990
Application date： Jul. 22, 1992
Publication date： Feb. 15, 1994
Summary：
【要約】【目的】 既設構造物の直下地盤を対象に地盤改良を行うこと。【構成】 既設構造物2の周辺地盤から既設構造物2の直下を経て既設構造物2の反対側に到達するに円弧状のパイロット管を並設する第1工程と、前記各パイロット管の先端に固結材の吐出機能を有する拡幅ビットを取り付けると共に、パイロット管の抜き取りと並行して拡幅ビットで固結材と地盤とを撹拌して既設構造物の直下地盤を画成する不透水層6を構築する.
Claim (excerpt)：
既設構造物の直下の地盤を地盤改良する方法において、既設構造物の周辺地盤から既設構造物の直下を経て既設構造物の反対側に到達するに円弧状のパイロット管を並設する第1工程と、前記各パイロット管の先端に固結材の吐出機能を有する拡幅ビットを取り付けると共に、パイロット管の抜き取りと並行して拡幅ビットで固結材と地盤とを撹拌して既設構造物の直下地盤を画成する不透水層を構築する第2工程とにより構成することを特徴とする、既設構造物直下の地盤改良工法。
IPC (4)：
E02D 27/48
, E02D 3/10 101
, E02D 3/12 102
, E02D 19/12
Cited by examiner (7)
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