Pat
J-GLOBAL ID:200903030212809847
欠陥検出方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
板垣 孝夫
, 森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003400933
Publication number (International publication number):2005165482
Application date: Dec. 01, 2003
Publication date: Jun. 23, 2005
Summary:
【課題】 画像処理による欠陥検査の際に、正常部分と欠陥部分の特徴量の差異が少なくても、また、検出対象となる欠陥の種類が多様でも、安定して、しかも少ない計算量で欠陥を検出できるようにする。【解決手段】 検査対象物についての取得画像より複数の特徴量p1〜pmを抽出し、それぞれの特徴量より特徴抽出画像を作成し、これらの複数の特徴抽出画像を成分に持つ特徴抽出配列Feを作成する。複数の特徴量より構成される頻度情報を持つ特徴空間に、特徴抽出配列Feの各要素をプロットし、特徴抽出配列Feの各要素を特徴空間より得られる頻度情報に置き換えた頻度画像g(t)(x,y)を作成する。作成された頻度画像g(t)(x,y)において、頻度の低い部分を取得画像における欠陥部分として検出し、頻度の高い部分を取得画像における正常部分として検出する。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
検査対象物についての取得画像の各画素位置において抽出される複数の特徴量の組み合わせにより決まる値を、前記特徴量より構成される特徴空間にプロットするとともに、前記特徴空間上にプロットされた各点に頻度情報を持たせ、前記特徴空間より、取得画像の各画素位置において、前記特徴量の組み合わせにより決まる値の頻度を求め、この頻度から、頻度の低い部分を欠陥部分として検出し、頻度の高い部分を正常部分として検出することを特徴とする欠陥検出方法。
IPC (3):
G06T1/00
, G01N21/88
, G06T7/00
FI (3):
G06T1/00 300
, G01N21/88 J
, G06T7/00 250
F-Term (23):
2G051AA01
, 2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051EC02
, 2G051ED21
, 5B057AA01
, 5B057BA02
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB06
, 5B057DB09
, 5B057DC19
, 5B057DC22
, 5B057DC25
, 5L096AA02
, 5L096AA06
, 5L096BA03
, 5L096FA32
, 5L096FA35
, 5L096GA02
, 5L096JA11
, 5L096MA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
-
欠陥検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-117836
Applicant:株式会社ロゼフテクノロジー
-
金属表面の欠陥検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-303221
Applicant:株式会社不二越, 株式会社東邦テクノシステム
-
被検査対象物の欠陥検出装置及び欠陥検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-029797
Applicant:三菱レイヨン株式会社
-
表面欠陥検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-186011
Applicant:トヨタ自動車株式会社
-
欠陥検出方法及び欠陥検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-359062
Applicant:株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
-
汚れ等の欠陥検出方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-065278
Applicant:株式会社日立製作所
-
周期性パターンの欠陥検査方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-092913
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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Cited by examiner (2)
-
欠陥検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-073504
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
パターン欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-206866
Applicant:株式会社日立製作所
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