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J-GLOBAL ID：200903030216910275

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 阿出川 豊 ,  上西 一也 ,  白川 浩司
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000235949
Publication number (International publication number)：2002049151
Application date： Aug. 03, 2000
Publication date： Feb. 15, 2002
Summary：

【要約】【課題】 感度、解像力に優れ、しかも矩形なプロファイルが得られる電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。【解決手段】 特定の構造単位を含むアルカリ可溶性樹脂、感放射線性酸発生剤及び酸により架橋する架橋剤を含有する電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表わされる構造単位を含むアルカリ可溶性樹脂、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物及び酸により架橋する架橋剤を含有することを特徴とする電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。【化1】式(1)中、R1aは、水素原子又はメチル基を表す。

IPC (6)：

G03F 7/038 601 ,  C08F 12/22 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/038 601 ,  C08F 12/22 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (47)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB16 ,  2H025CB52 ,  2H025CB55 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC021 ,  4J002EV056 ,  4J002EV066 ,  4J002EV076 ,  4J002EV296 ,  4J100AB03P ,  4J100AB03Q ,  4J100AB03R ,  4J100AB03S ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AB07S ,  4J100AL03T ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA04S ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA20S ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA39 ,  4J100EA01 ,  4J100JA38