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J-GLOBAL ID：200903030235222541

電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法

Inventor： 千々松 達夫
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993137877
Publication number (International publication number)：1994349718
Application date： Jun. 08, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は電子ビーム描画装置の改善に関し、電子ビームの非照射領域に露光評価点を設定して、その近接効果補正を見直をすることにより、高微細かつ高密度なデバイスパターンに対しても高寸法精度のパターン描画をすることを目的する。【構成】 設計データDINを露光データDOUT に変換するデータ変換手段11と、露光データDOUT に基づいて電子ビーム描画処理をする電子ビーム描画手段12と、データ変換手段11及び電子ビーム描画手段12の入出力を制御する制御手段13とを具備し、データ変換手段11が、設計データDINに基づいて作成される被露光図形対象14の非照射部Paに第1の評価点tを設定し、かつ、その照射部Pbに第2の評価点Snを設定し、非照射部Paの露光強度と照射部Pbの露光強度に基づいて被露光図形対象14の近接効果補正の見直し制御をすることを含み構成する。

Claim (excerpt)：

設計データ(DIN)を露光データ(DOUT )に変換するデータ変換手段(11)と、前記露光データ(DOUT )に基づいて電子ビーム描画処理をする電子ビーム描画手段(12)と、前記データ変換手段(11)及び電子ビーム描画手段(12)の入出力を制御する制御手段(13)とを具備し、前記データ変換手段(11)が、設計データ(DIN)に基づいて作成される被露光図形対象(14)の非照射部(Pa)に、少なくとも、1つの第1の評価点(t)を設定し、かつ、該被露光図形対象(14)の照射部(Pb)に第2の評価点(Sn,〔i=1〜i,j,n〕)を設定し、前記非照射部(Pa)の露光強度と照射部(Pb)の露光強度との算出結果に基づいて被露光図形対象(14)の近接効果補正の見直し制御をすることを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/305