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J-GLOBAL ID：200903030243612731

フェノール材料からポリマーを調製する方法およびこれに関連する組成物

Inventor： キース ジェイ.クニッツスカイ ,  マイケル ティー.シーハン ,  ジェームズ アール.スーニック ,  マーク イー.ワグマン
Applicant, Patent owner： デュポン エレクトロニック ポリマーズ リミテッド パートナーシップ
Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009522779
Publication number (International publication number)：2009545648
Application date： Jul. 21, 2007
Publication date： Dec. 24, 2009
Summary：

ポリ(ヒドロキシスチレン)などの安定なポリマーを製造する方法であって、非アミン塩基性触媒および極性有機溶媒の存在下で対応するフェノールを脱カルボキシル化し、その後、重合する方法。

Claim (excerpt)：

ポリ(ヒドロキシスチレン)を製造する方法であって、 a)一般構造:

IPC (1)：

C08F 12/22

FI (1)：

C08F12/22

F-Term (23)：

4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB16Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05P ,  4J100BB11Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA19 ,  4J100JA03 ,  4J100JA07 ,  4J100JA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭58-063707
  
• 特開昭52-006791
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭58-063707
  
• 特開昭58-063707
  
• 特開昭52-006791
  
• 特開昭52-006791