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J-GLOBAL ID:200903030244572130

細胞培養支持体及びその製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992009092
Publication number (International publication number):1993192130
Application date: Jan. 22, 1992
Publication date: Aug. 03, 1993
Summary:
【要約】【目的】 細胞培養支持体表面上のポリマーフィルムが凹凸の無い平滑で均一なものであり、そのため細胞培養支持体を歩留り高く製造出来、且つ細胞の培養状況を顕微鏡等で調べる際に凹凸像と培養細胞像が重なること無く明解に観察され細胞の剥離・回収が一層容易に効果的に行える細胞培養支持体、及びその製造法を提供する。【構成】 水に対する臨界溶解温度が0〜80°Cのポリマーを与えるモノマー及び溶媒を含有する溶液を基材上に塗布し、電子線照射を2回以上行い且つそれらの少なくとも1回の電子線照射間に於いて溶媒除去工程を含むことを特徴とする。
Claim (excerpt):
水に対する臨界溶解温度が0〜80°Cのポリマーを与えるモノマー及び溶媒を含有する溶液を基材上に塗布し、電子線照射を2回以上行い且つそれらの電子線照射の間隔の少なくとも1回に於いて溶媒除去工程を含むことを特徴とする細胞培養支持体の製造法。
IPC (2):
C12M 3/00 ,  C12N 5/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-005612

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