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J-GLOBAL ID：200903030269953189

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  近藤 俊一
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998065600
Publication number (International publication number)：1999258802
Application date： Mar. 16, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 220nm以下の露光光源を使用しても、良好な感度、解像度を与え、十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ経時保存時での十分な安定性を有するネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシル基及びカルボキシル基を有し、かつ主鎖に脂環式基を有するポリシクロオレフィン樹脂及び環状イミド化合物を含有するネガ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)ヒドロキシル基及びカルボキシル基を有し、かつ主鎖に脂環式基を有するポリシクロオレフィン樹脂、及び(C)環状イミド化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 601 ,  C08L 33/02 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/037 501

FI (5)：

G03F 7/038 601 ,  C08L 33/02 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/037 501