Pat
J-GLOBAL ID：200903030281074395
電子線装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
菅井 英雄 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993203967
Publication number (International publication number)：1995057680
Application date： Aug. 18, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：
【要約】【目的】 EPMAにおいて試料上におけるプローブ径を広げて分析する場合、プローブ電流が変更された場合にも試料上におけるプローブ径が変化しないようにする。【構成】 OL主面でのプローブ径をR、試料2でのプローブ径をr、OL主面と試料2との距離をw、OL主面でのビーム径がRのときにプローブが試料2に最適開き角で合焦するときの焦点距離をf0 とすると、一般に、f(r,R)=f0/(1-f0・r/w・R)が成り立つ。従って、制御部6は、試料2上でのプローブ径がrに設定されているときにプローブ電流が変更され、その結果OL主面でのビーム径がR′になったとすると、上式に基づいてOLの焦点距離f(r,R′)を求める。
Claim (excerpt)：
電子銃と、集束レンズ系と、対物絞りと、対物レンズと試料位置とがこの順に配置されてなり、プローブ電流及び試料位置におけるプローブ径が調整可能となされている電子線装置において、試料上におけるプローブ径が所定の値に設定されている状態においてプローブ電流が変更された場合には、変更されたプローブ電流値と、当該設定されている試料上におけるプローブ径と、対物レンズの主面と試料との距離等に基づいて試料上でのプローブ径が変化しないように対物レンズの焦点距離を変更する制御手段を備えることを特徴とする電子線装置。
IPC (3)：
H01J 37/256
, H01J 37/04
, H01J 37/21
