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J-GLOBAL ID：200903030339573974

露光装置及び該露光装置を用いてデバイスを製造する方法

Inventor： 海老沼 隆一
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993275519
Publication number (International publication number)：1995130626
Application date： Nov. 04, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 常に好ましい助走距離やオーバーラン距離を得ること。【構成】 露光光に対してレチクル11とウエハ14を走査することにより、光学系13を介してレチクルのパターンをウエハ上に投影する装置において、制御手段17、121、151により、レチクルやウエハを走査する時の助走距離やオーバーランの距離を走査速度に応じて変える。

Claim (excerpt)：

露光光に対して原板と基板を走査することにより前記原板のパターンを前記基板上に投影する露光装置において、前記原板及び/又は基板を走査する時の助走距離及び/又はオーバランの距離を前記原板及び/又は基板の走査速度に応じて変える手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 516 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-196513
  
• 特開昭61-251025
  
• 特開平2-229423