Pat
J-GLOBAL ID:200903030372439833

疎水性ゾーン装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 鈴木 崇生 ,  梶崎 弘一 ,  尾崎 雄三 ,  谷口 俊彦
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003584329
Publication number (International publication number):2005522219
Application date: Apr. 08, 2003
Publication date: Jul. 28, 2005
Summary:
疎水性領域によって境界がつけられた親水性領域を有するアッセイチップの製造および使用方法が提供される。これが望ましい理由は、これによってユーザーが水性媒質中の試薬を親水性領域上に付着させることができる一方で、疎水性領域は試薬が親水性領域から流れ出るのを防ぐからである。したがってこれらの試薬は親水性領域において隔離され、試薬のあらゆる損失または希釈を最小限にすることができる。好ましい実施態様において、チップ表面は、疎水性領域によって境界がつけられた複数の親水性領域を特徴とし、これによってユーザーは、サンプルの相互汚染なく同じチップ上で複数のアッセイを行なうことができる。この装置は、オリゴヌクレオチドが電気化学的分析のために金電極に付着される遺伝子分析の分野にとって特に有利である。
Claim (excerpt):
複数の小滴を電極上に配置する方法であって、 複数の親水性ゾーンにおいて小滴を配置することができる複数の電極を有する基板を提供する工程であって、各親水性ゾーンが疎水性ゾーンによって境界がつけられる工程;および 複数の前記親水性ゾーン中に異なる水性小滴を加える工程、 を含む方法。
IPC (5):
C12N15/09 ,  C12M1/00 ,  G01N27/327 ,  G01N33/53 ,  G01N37/00
FI (5):
C12N15/00 F ,  C12M1/00 A ,  G01N33/53 M ,  G01N37/00 102 ,  G01N27/30 351
F-Term (12):
4B024AA19 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024HA19 ,  4B029AA07 ,  4B029FA12 ,  4B063QA01 ,  4B063QA13 ,  4B063QQ42 ,  4B063QR32 ,  4B063QR84 ,  4B063QS39
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page