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J-GLOBAL ID：200903030411941657
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995202343
Publication number (International publication number)：1997050126
Application date： Aug. 08, 1995
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：
【要約】【課題】 水を現像液として所望パターンの現像が可能な新しいタイプのレジスト組成物を提供し、併せてこの新しいレジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】 このレジスト組成物は、主剤樹脂と光酸発生剤とを含み、主剤樹脂を構成している重合体が水酸基を保護された繰り返し単位を含んでいることを特徴とする。この繰り返し単位は、水酸基を保護されたグルコフラノースに由来する置換基を持つ単位でよく、あるいは水酸基を保護されたビニルアルコールに由来する単位でよい。
Claim (excerpt)：
主剤樹脂と光酸発生剤とを含み、主剤樹脂を構成している重合体が水酸基を保護された繰り返し単位を含んでいることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (2)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
