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J-GLOBAL ID:200903030452690642
浄化槽
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996313382
Publication number (International publication number):1998151483
Application date: Nov. 25, 1996
Publication date: Jun. 09, 1998
Summary:
【要約】【課題】 処理水の処理流量を支障なく確実に調整する。【解決手段】 被処理水を活性汚泥により好気的に生物学的処理する曝気槽(4)に、膜分離装置(5)が被処理水に浸漬可能に内装され、この膜分離装置に接続された処理水配管(9)を介して処理水貯留槽(6)が曝気槽と連通して設けられ、さらに処理水貯留槽は、放流ポンプ(12)を管路途中に設けた放流管(15)を介して消毒槽(8)に連通する浄化槽において、処理水貯留槽に水位検知手段(19)を設け、この水位検知手段による水位検知に基づいて、曝気槽と処理水貯留槽に関する予め定められた設定水頭差が実現されるように放流ポンプの動作を制御する制御部(10)を設ける。
Claim (excerpt):
被処理水を活性汚泥により好気的に生物学的処理する曝気槽に、膜分離装置が被処理水に浸漬可能に内装され、この膜分離装置に接続された処理水配管を介して処理水貯留槽が曝気槽と連通して設けられ、さらに処理水貯留槽は、放流ポンプを管路途中に設けた放流管を介して消毒槽に連通し、前記膜分離装置は、曝気槽と処理水貯留槽の間の水頭差を駆動源として被処理水を固液分離し、処理水を処理水貯留槽に送る一方、活性汚泥は曝気槽に保持する浄化槽において、処理水貯留槽に水位検知手段が設けられ、この水位検知手段による水位検知に基づいて、曝気槽と処理水貯留槽に関する予め定められた設定水頭差が実現されるように前記放流ポンプの動作を制御する制御部が設けられていることを特徴とする浄化槽。
IPC (4):
C02F 3/12 ZAB
, C02F 3/12
, B01D 65/02 520
, C02F 1/44 ZAB
FI (4):
C02F 3/12 ZAB H
, C02F 3/12 S
, B01D 65/02 520
, C02F 1/44 ZAB K
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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汚水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-233891
Applicant:株式会社クボタ
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汚水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-093161
Applicant:株式会社クボタ
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浄化槽
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-293597
Applicant:株式会社クボタ
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