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J-GLOBAL ID：200903030493522487

レチクル及びこれを用いた半導体露光装置

Inventor： 北島 弘伸 ,  山部 正樹
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 松本 眞吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992268968
Publication number (International publication number)：1994118623
Application date： Oct. 07, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】各種パターンに対し解像度と焦点深度を共に向上させる。【構成】ガラス基板上にパターン部を除き遮光体34が被着されて、長手方向が互いに直角なX方向線形パターン30xとY方向線形パターン30yとが形成され、パターン30xは、透過軸がX方向のX偏光LXを透過させ透過軸がY方向のY偏光LYを透過させず、パターン30yは、Y偏光LYを透過させX偏光LXを透過させない。このようなレチクル30の面に対し斜め方向かつX方向に直角な方向からX偏光LXを照射し、レチクル30の面に対し斜め方向かつY方向に直角な方向からY偏光LYを照射させる。

Claim (excerpt)：

透明基板(30)上にパターン部を除き遮光体(34)が被着されて、長手方向が互いに直角なX方向線形パターン(30x)とY方向線形パターン(30y)とが形成されたレチクルにおいて、該X方向線形パターンの該透明基板上近傍に該透明基板に平行に形成され、第1偏光(LX)を透過させ第2偏光(LY)を透過させない第1偏光選択手段と、該Y方向線形パターンの該透明基板上近傍に該透明基板に平行に形成され、該第2偏光を透過させ該第1偏光を透過させない第2偏光選択手段と、を有することを特徴とするレチクル

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  G02B 27/28

FI (3)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W ,  H01L 21/30 311 L