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J-GLOBAL ID：200903030506329843

プラズマ処理装置

Inventor： 白川 真司 ,  手束 勉 ,  吉岡 健 ,  数見 秀之 ,  横森 昭仁
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993225695
Publication number (International publication number)：1995086179
Application date： Sep. 10, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 大面積の試料を均一にプラズマ処理する装置の小型化を図る。【構成】 真空室7内に設置されたプラズマ処理対象の試料8に対向する位置に複数のアンテナ1a,1b,1cを設置し、各アンテナ1a〜1cから電磁波を放射させると共に、電磁コイル6a,6bから磁場を印加して、試料8前面に電子サイクロトロン共鳴条件を満たす領域を発生させ、反応ガスを真空室7内に導入して前記領域にプラズマ10を発生させる。各アンテナ1a〜1cには夫々別の高周波電源3a,3b,3cから電力を供給するようにし、プラズマの発光状態を光センサ2a,2b,2c,2dで検出する。電源制御手段4は、光センサ2a〜2dの検出信号からプラズマの発光分布を求め、発光分布を均一分布とする各アンテナ供給電力を算出し、算出した値により各高周波電源3a〜3cを制御する。

Claim (excerpt)：

真空室内に設置されたプラズマ処理対象の試料に対向する位置にアンテナを設置し、該アンテナから電磁波を放射させると共に磁気コイルから磁場を印加して試料前面に電子サイクロトロン共鳴条件を満たす領域を発生させ、反応ガスを真空室内に導入して前記領域にプラズマを発生させ、試料をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、前記アンテナとして夫々別の高周波電源から電力が供給される複数のアンテナを設けると共に、前記プラズマの発光状態を検出する光検出手段と、該光検出手段の検出信号から前記プラズマの発光分布を求め該発光分布を均一分布とする各アンテナ供給電力を算出し算出した値により前記各高周波電源を制御する電源制御手段とを設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46