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J-GLOBAL ID：200903030522391710

光学機能性膜及びその製造方法

Inventor： 高橋 伸子 ,  吉原 俊夫 ,  太田 友里恵 ,  国峯 昇
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998252493
Publication number (International publication number)：2000089001
Application date： Sep. 07, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】 SiO2ゲル層の基材フィルムへの密着性が改良され、高機能且つ高品質な特性や生産性を維持し、且つ実用に耐え得る機能性膜の提供。【解決手段】 基材フィルム面に、直接又は他の層を介して低屈折率層を形成してなり、該低屈折率層が、少なくとも2種以上の珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2ゾルをゲル化したSiO2ゲル層であることを特徴とする光学機能性膜及びその製造方法。

Claim (excerpt)：

基材フィルム面に、直接又は他の層を介して低屈折率層を形成してなり、該低屈折率層が、少なくとも2種以上の珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2ゾルをゲル化したSiO2ゲル層であることを特徴とする光学機能性膜。

IPC (9)：

G02B 1/11 ,  B32B 9/00 ,  C08J 7/06 CFD ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/26 ,  C09D 1/00 ,  C09D183/00 ,  G02B 5/22 ,  C08L 83:00

FI (8)：

G02B 1/10 A ,  B32B 9/00 A ,  C08J 7/06 CFD Z ,  G02B 5/26 ,  C09D 1/00 ,  C09D183/00 ,  G02B 5/22 ,  G02B 1/10 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 低反射積層体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-318131   Applicant：帝人株式会社
• 反射防止フイルム及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-177508   Applicant：大日本印刷株式会社