Pat

J-GLOBAL ID：200903030522672132

ケイ素系ハイブリツド材料

Inventor： 岩原 孝尚 ,  安藤 紀芳 ,  米沢 和弥
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991278293
Publication number (International publication number)：1993086188
Application date： Sep. 30, 1991
Publication date： Apr. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、耐熱性、耐燃焼性に優れ、軽量高靱性で高い機械的強度と良好な成形加工性を有するケイ素系ハイブリッド材料及びその製造方法を提供するものである。【構成】 本発明は、(A)ケイ酸塩類及び/またはそれから誘導されるケイ酸類、(B)少なくとも2個のSiH基を有するケイ素化合物、(C)少なくとも2個のアルケニル基を有する有機化合物からなる系において、1.シラノレート基及び/またはシラノール基の関与する縮合反応、2.SiH基とアルケニル基とのヒドロシリル化反応、を同時進行的に行なわせて得られる、耐熱性、耐燃焼性、耐環境性に優れ、軽量高靱性で高い機械的強度と良好な成形加工性を有するケイ素系ハイブリッド材料である。

Claim (excerpt)：

(A)ケイ酸塩類及び/またはそれから誘導されるケイ酸類、(B)少なくとも2個のSiH基を有するケイ素化合物、(C)少なくとも2個のアルケニル基を有する有機化合物、からなる系において、1.シラノレート基及び/またはシラノール基の関与する縮合反応、2.SiH基とアルケニル基とのヒドロシリル化反応、を同時進行的に行なわせて得られることを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料。