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J-GLOBAL ID：200903030529610027

熱処理用ボート

Inventor： 大沢 哲
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン東北株式会社
Agent (1)： 井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993031315
Publication number (International publication number)：1994224146
Application date： Jan. 27, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 被処理体例えば半導体ウエハを熱処理するときに発生するスリップと呼ばれる表面欠陥をなくすこと。【構成】 1本の第1の支柱4と、例えば筒状体を半割りにした構造の2本の第2の支柱5A、5Bとを設けて支柱5A、5Bの間からウエハWが進入するように構成し、各支柱4、5A、5Bに形成された溝部41、51の支持面がウエハWの周方向に沿ってほぼ3等分になる個所に位置させる。ウエハに反りがあっても各支持面ではバランスよく支持されるので過度の応力がウエハWに発生しない。

Claim (excerpt)：

多数の円形板状の被処理体を上下に間隔をおいて搭載し、縦型熱処理炉内にて被処理体を熱処理するために用いられる熱処理用ボートにおいて、前記被処理体の進入方向に沿った被処理体の中心線上に位置するように配置された第1の支柱と、この第1の支柱の前記進入方向手前にて前記第1の支柱に対して左右対称位置に1本づつ配置され、その間から被処理体が進入される第2の支柱と、前記被処理体が挿入されて水平に支持されるように第1の支柱及び第2の支柱の同じ高さ位置に形成された溝部と、を備え、前記第1の支柱の溝部の支持面と第2の溝部の支持面とは、被処理体の周方向に沿ってほぼ3等分した個所に位置していることを特徴とする熱処理用ボート。

IPC (2)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-168119
  
• 特開昭62-135264
  
• 特開平2-097274
  
• 特開昭55-086378