露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：永井冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991345453
Publication number (International publication number)：1993175098
Application date： Dec. 26, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】 2枚の被露光基板に対して並行して露光とアライメント情報検出とを行なうようにしてスループットの向上を図る。【構成】基板ステージSTに並べて保持された一方の基板W1(W2)にマスクパターンを露光するときに、他方の基板W2(W1)のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系PLと第1および第2のアライメント光学系AA1a,AA1b、AA2a,AA2bを配置する。露光中に得られたアライメント情報を使用して、基板にマスクパターンを露光するときの位置決めを行なう。また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージSTの位置検出手段11,12と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージSTの位置検出手段11,13(11,14)をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンを感光基板上に露光する露光装置において、第1基板と第2基板とを保持して2次元移動する基板ステージと、前記マスクのパターンの露光位置に対してアッベ誤差がほぼゼロとなるように配置され、前記基板ステージの2次元的な位置を検出する第1の位置検出手段と、前記第1基板上に形成されたアライメント用マークを観察するマーク観察手段であって、前記第2基板の中心点を前記露光位置に一致させたとき、前記第1基板のアライメントマークがマーク観察位置とほぼ一致するように前記露光位置に対して所定の位置関係で配置される第1のマーク観察手段と、この第1のマーク観察手段のマーク観察位置に対してアッベ誤差がほぼゼロとなるように配置され、前記基板ステージの2次元的な位置を検出する第2の位置検出手段と、前記第2基板上に形成されたアライメント用マークを観察するマーク観察手段であって、前記第1基板の中心点を前記露光位置に一致させたとき、前記第2基板のアライメントマークがマーク観察位置とほぼ一致するように前記露光位置に対して所定の位置関係で配置される第2のマーク観察手段と、この第2のマーク観察手段に対してアッベ誤差がほぼゼロとなるように配置され、前記基板ステージの2次元的な位置を検出する第3の位置検出手段と、前記第1および第2のマーク観察手段でそれぞれ前記第1および第2のアライメントマークを観察したときのそれぞれのアライメントマークの位置を検出するアライメント位置検出手段と、前記第1の位置検出手段の検出結果を第2および第3の位置検出手段でそれぞれ検出された位置検出結果とそれぞれ対応づけ、前記第1および第2基板に対して前記パターンをそれぞれ露光するとき、前回の第2および第1基板に対するそれぞれの露光工程中に前記アライメント位置検出手段で検出された第1および第2基板の各アライメントマークの各位置情報に基づいて前記基板ステージの位置を制御するとともに、第1基板と第2基板とを交互に露光位置とマーク観察位置に移動させるステージ移動制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (2)：

H01L 21/30 311 M , H01L 21/30 301 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開昭63-087725
特開平1-161832
特開平1-309324

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