ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006114084
Publication number (International publication number)：2007114728
Application date： Apr. 18, 2006
Publication date： May. 10, 2007
Summary：

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。【解決手段】一般式(a)及び(b)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するするポジ型レジスト材料。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

少なくとも下記一般式(a)及び(b)

IPC (3)：

G03F 7/039 , C08F 220/18 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , C08F220/18 , H01L21/30 502R

F-Term (37)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03P , 4J100BA03S , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA16P , 4J100BA20P , 4J100BA20Q , 4J100BC03R , 4J100BC04R , 4J100BC07R , 4J100BC07S , 4J100BC49P , 4J100BC52Q , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

特公平2-27660号公報
ラクトン構造を有する新規(メタ)アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-179614 Applicant：信越化学工業株式会社
新規樹脂およびそれを含有するフォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-154310 Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー

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Cited by examiner (7)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-095523 Applicant：富士写真フイルム株式会社
重合性モノマー及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-352136 Applicant：三菱レイヨン株式会社
樹脂混合物を含むフォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-009643 Applicant：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

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