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J-GLOBAL ID：200903030581358778
球面フォトマスクおよびパターン作製方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994258901
Publication number (International publication number)：1996095231
Application date： Sep. 28, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：
【要約】【目的】 簡単かつ量産性のある方法で球面上に凹凸パターンを形成する。【構成】 球面フォトマスク11の凸面上にはクロムの同心円状回折格子パターンが施されている。ガラス基板12のフォトレジスト13を塗布した球面に球面フォトマスク11を隙間無く密着させ、露光装置15にて紫外線16を当てて露光する。この後、フォトレジスト13を現像して凹凸パターンを得、これを硬化する。
Claim (excerpt)：
少なくとも片面が球面であるガラス基板の球面側に遮光材料にてパターンを形成したことを特徴とする球面フォトマスク。
IPC (3)：
G03F 1/08
, G02B 3/00
, G02B 5/18
Cited by examiner (6)
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