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J-GLOBAL ID：200903030585104738

スパッタ皮膜の屈折率コントロール方法

Inventor： 吉川 雅人 ,  熊谷 祥
Applicant, Patent owner： 株式会社ブリヂストン
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998290048
Publication number (International publication number)：2000104165
Application date： Sep. 28, 1998
Publication date： Apr. 11, 2000
Summary：

【要約】【解決手段】 炭化ケイ素をターゲットとし、ターゲットへの投入電力をコントロールしてスパッタリングを行うことにより、基材上に屈折率1.4〜2.8の範囲の任意の屈折率を有する炭化ケイ素を主体とする薄膜を得ることを特徴とするスパッタ皮膜の屈折率コントロール方法。【効果】 本発明によれば、屈折率1.4〜2.8の範囲で厚さ方向に沿って任意の屈折率変化を有する積層膜を確実に形成することができる。

Claim (excerpt)：

炭化ケイ素をターゲットとし、ターゲットへの投入電力をコントロールしてスパッタリングを行うことにより、基材上に屈折率1.4〜2.8の範囲の任意の屈折率を有する炭化ケイ素を主体とする薄膜を得ることを特徴とするスパッタ皮膜の屈折率コントロール方法。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/06

FI (2)：

C23C 14/34 M ,  C23C 14/06 B

F-Term (10)：

4K029BA41 ,  4K029BA56 ,  4K029BC07 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029EA00 ,  4K029EA05 ,  4K029EA09