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J-GLOBAL ID:200903030595081396

エアレーション装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1995516457
Publication number (International publication number):1997508849
Application date: Dec. 10, 1994
Publication date: Sep. 09, 1997
Summary:
【要約】ガスを液体に導入するように設計されたガス導入装置が述べられている。その装置は、少なくとも一つのガス供給マニホールド(10)と自由端が開放されている複数の管状供給要素(12)とを備える。各供給要素は、窄孔された管状の薄膜(14)によって囲まれている。各供給要素のガス供給ラインは、薄膜の近くで終了する。各供給要素は、中央要素から延びる2つの支持部要素(4648)を備える。中央要素は、ガス供給マニホールドの外面に固定されるように設計されたフランジを有する。ガス供給ラインは、ガス供給マニホールドの孔から、中央ライン(26)および中央ライン(26)から分かれる2つの分岐ライン(28)を介して、薄膜の後ろにある縦溝に通じる。中央ラインと分岐ラインとは、中央要素に位置する。供給要素は、中央要素と薄膜支持要素とを含む単一ブロック構造である。
Claim (excerpt):
ガスを液体、特に処理されるべき廃水の中に導入するエアレーション装置であって、少なくとも一つのガスディストリビュータ(10)と、多数の支持部(4648)とを有し、支持部のそれぞれは自由端で開放されていて窄孔されたホース状の薄膜(14)で覆われており、それにより各支持部(4648)は該薄膜(14)の近くで終了する少なくとも一つのガス出口を備えており、該支持部(4648)は該ガスディストリビュータ(10)に取り付けられる中央部材(24)から突起していて、液体は該ガスディストリビュータ(10)から貫通孔(34)を通じて該中央部材まで流れ得て、それにより該中央部材(24)と該支持部(4648)とが注入部材(12)として単一の部材を形成している、エアレーション装置であって、 該ガス出口は各支持部(4648)の縦溝型のガス供給チャネル(16)であり、該中央部材(24)は中央チャネル(26)とそれから延びる2つの2次的なチャネル(28)とを備え、2つの2次的なチャネルは縦溝型の該ガス供給チャネル(16)に通じていて、液体は該ガスディストリビュータ(10)から該貫通孔(34)を通じて該中央チャネル(26)まで流れ得ることを特徴とする、エアレーション装置。
IPC (3):
B01F 5/06 ,  B01F 3/04 ,  C02F 3/20
FI (3):
B01F 5/06 ,  B01F 3/04 A ,  C02F 3/20 Z

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