ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：高松猛 , 矢澤清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007178474
Publication number (International publication number)：2008209889
Application date： Jul. 06, 2007
Publication date： Sep. 11, 2008
Summary：

【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光においても、パターン倒れ、パターン形状が良好であり、且つ、二重露光において、パターン解像性、パターン形状が良好である、ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(C)酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び (C)酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 , G03F 7/11 , G03F 7/38 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 , G03F7/11 501 , G03F7/38 511 , H01L21/30 502R

F-Term (27)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB03 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025DA03 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096AA28 , 2H096BA11 , 2H096CA06 , 2H096EA05 , 2H096EA12 , 2H096GA09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (11)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法
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国際公開WO2004-068242号パンフレット
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平版印刷版材料
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