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J-GLOBAL ID：200903030668127900

チャンバーへのガス供給方法

Inventor： 皆見 幸男 ,  池田 信一
Applicant, Patent owner： 清原 まさ子
Agent (1)： 杉本 丈夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993268689
Publication number (International publication number)：1995122498
Application date： Oct. 27, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ガス供給ラインの切り換え時に於けるプロセスチャンバー内の圧力変動を抑制できるようにする。【構成】 チャンバー3内に、反応性ガス供給ライン1から反応性ガスを、又、不活性ガス供給ライン2から不活性ガスを夫々交互に供給するようにしたチャンバー3へのガス供給方法に於いて、各ライン1,2に設けた切り換えバルブV1,V2 の一次側に分流バルブV3 ,V4 を夫々接続すると共に、当該分流バルブV3 ,V4 にベントライン6を接続し、反応性ガス供給ライン1のライン切り換えバルブV1 と不活性ガス供給ライン2側の分流バルブV4 を、又、不活性ガス供給ライン2のライン切り換えバルブV2 と反応性ガス供給ライン1側の分流バルブV3 を夫々同時に開閉操作し、前記ベントライン6を真空排気しつつ、反応性ガス供給ライン1及び不活性ガス供給ライン2からチャンバー3内へ反応性ガスと不活性ガスを交互に供給するようにする。

Claim (excerpt)：

ウエハーの成膜処理を行うチャンバー(3)内に、チャンバー圧力調整器(4)及びライン切り換えバルブ(V1 )を備えた反応性ガス供給ライン(1)から反応性ガスを、又、チャンバー圧力調整器(5)及びライン切り換えバルブ(V2 )を備えた不活性ガス供給ライン(2)から不活性ガスを夫々交互に供給するようにしたチャンバー(3)へのガス供給方法に於いて、各ライン(1),(2)の切り換えバルブ(V1 ),(V2 )の一次側に分流バルブ(V3 ),(V4 )を夫々接続すると共に、当該分流バルブ(V3 ),(V4 )にベントライン(6)を接続し、反応性ガス供給ライン(1)のライン切り換えバルブ(V1 )と不活性ガス供給ライン(2)側の分流バルブ(V4 )を、又、不活性ガス供給ライン(2)のライン切り換えバルブ(V2 )と反応性ガス供給ライン(1)側の分流バルブ(V3 )を夫々同時に開閉操作し、前記ベントライン(6)を真空排気しつつ、反応性ガス供給ライン(1)及び不活性ガス供給ライン(2)からチャンバー(3)内へ反応性ガスと不活性ガスを交互に供給するようにしたことを特徴とするチャンバーへのガス供給方法。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  B01J 4/00 102 ,  F17D 1/02 ,  G05D 16/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-044013
  
• 特開平4-266017
  
• 特開平4-233722