Pat
J-GLOBAL ID:200903030691342940
有害物質処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
光石 俊郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998238591
Publication number (International publication number):2000061455
Application date: Aug. 25, 1998
Publication date: Feb. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 原水中の有害物質を効率よく確実に処理することが容易にできる有害物質処理装置を提供する。【解決手段】 有害物質を含有する原水1にオゾン発生装置14からオゾン2を送給した後に分離膜13を透過させることにより当該有害物質を処理する有害物質処理装置において、オゾン2および有害物質を吸着する吸着剤を内部に有する吸着剤槽16を分離膜13の上流側または下流側の少なくとも一方に設けた。
Claim (excerpt):
有害物質を含有する原水にオゾンを送給した後に分離膜を透過させることにより当該有害物質を処理する有害物質処理装置において、前記オゾンおよび前記有害物質を吸着する吸着剤を内部に有する吸着剤槽を前記分離膜の上流側または下流側の少なくとも一方に設けたことを特徴とする有害物質処理装置。
IPC (5):
C02F 1/28
, B01D 15/00
, C02F 1/44
, C02F 1/78
, C01B 13/10
FI (5):
C02F 1/28 F
, B01D 15/00 P
, C02F 1/44 K
, C02F 1/78
, C01B 13/10 D
F-Term (31):
4D006GA03
, 4D006GA06
, 4D006GA07
, 4D006KA41
, 4D006KB12
, 4D006PB07
, 4D006PB24
, 4D006PC55
, 4D006PC56
, 4D017AA01
, 4D017BA03
, 4D017BA11
, 4D017CA03
, 4D017CA05
, 4D024AA06
, 4D024AB04
, 4D024AB07
, 4D024AB14
, 4D024BA02
, 4D024BA05
, 4D024BA07
, 4D024DB05
, 4D024DB24
, 4D050AA10
, 4D050AB04
, 4D050AB06
, 4D050AB07
, 4D050BB02
, 4D050CA06
, 4D050CA09
, 4G042CE04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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浄水給水器の殺菌装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-170829
Applicant:株式会社間組
-
超純水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-128618
Applicant:オルガノ株式会社
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特開昭62-183897
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