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J-GLOBAL ID:200903030705987701
浄化装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003375406
Publication number (International publication number):2005137470
Application date: Nov. 05, 2003
Publication date: Jun. 02, 2005
Summary:
【課題】従来放電による液体の浄化装置は、液体流通経路内に設置されてある電極間にパルス電圧を印加し高電界を発生させ、高電界部を通過する液中の菌や微生物を死滅させて浄化をしていたが、放電部に流入する液体が多量であり、放電領域部分で均一に液体全体を殺菌・分解浄化することはできないという課題を有していた。【解決手段】微生物や有害物質を含む液体が高電界部に流入する直前にシャワー状あるいは霧化して通過させることで、液体表面全体が均一に放電部分と接触し、浄化できる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
放電電極と、対向電極と、前記両電極間に高周波数の極小パルス幅の高電圧を印加させるパルス電圧印加装置とを備え、パルス電圧を印加した時に発生する放電領域部分に液体をシャワー状あるいは霧化にして通過するようにしたことを特徴とした浄化装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (3):
4C058AA01
, 4C058BB02
, 4C058EE26
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (4)
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光による水処理
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-114095
Applicant:宝田正昭, 有限会社栄豊工業
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パルスパワーを用いた液体中大容量ストリーマ状放電の生成法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-152167
Applicant:秋山秀典
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特開昭62-151174
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ラジカル処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-126950
Applicant:株式会社東芝
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