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J-GLOBAL ID:200903030713968074

エネルギーを有するクラスタ・ビームを使用して汚染表面を洗浄する方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998128704
Publication number (International publication number):1999330033
Application date: May. 12, 1998
Publication date: Nov. 30, 1999
Summary:
【要約】【課題】 汚染物質の大きさや、組成や、形態とは独立に表面から汚染物質を除去する。【解決手段】 所定の組成、速度、エネルギー、サイズ分布を有する微少飛沫またはクラスタからなるビームを目標基板上へ送り、汚染物質を除去する。1つまたは複数の毛管状放出器の先端へ空気圧によって送られる導電流体を静電噴霧することによって、荷電された高エネルギー・クラスタ・ビームが形成される。ビーム・クラスタは、イオン・ビームと比べて大きいので、目標物の広い領域にわたってエネルギーを消費し、それによって、サブミクロン微粒子、有機被膜、金属汚染物質を同時に剥離し除去する。個別のクラスタ衝撃エネルギーは高いが、多数のクラスタ核子によって共用される。このため、衝撃時の比エネルギーは1cV/核子よりも小さく、材料スパッタリングしきい値よりもかなり低く、したがって、汚染物質除去プロセス中の直接エッチングや衝撃を受ける表面への損傷が防止される。
Claim (excerpt):
基板表面から汚染物質を除去する装置であって、クラスタ・ビームを生成する開口部を有する放出器源と、表面張力を有する導電流体を空気圧により流体導体を介して放出器開口部へ送るクラスタ源と、抽出電極自体と前記放出器源との間に電界を生成する抽出電極とを備え、前記導電流体を前記放出器源開口部へ送ると、前記電界が表面張力よりも高い静電力を生成し、前記導電流体が、あるクラスタ・サイズを有する複数のクラスタとして噴霧され、前記クラスタが、前記電界によって加速され前記基板表面に衝撃を与え、さらに、前記クラスタ・ビームに対して電荷を放出し、それによって、前記基板表面上の過度の電荷蓄積を防止する中和源を備えることを特徴とする装置。
IPC (3):
H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  B08B 7/00
FI (3):
H01L 21/304 643 Z ,  H01L 21/304 643 C ,  B08B 7/00

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